光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等 。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem 。
低纳米光刻机，是分辨率较高，精确到纳米的光刻机 。
【什么是低纳米光刻机】2018年11月29日 ， 国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收 。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后 ， 未来还可用于制造10纳米级别的芯片 。

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