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光刻机和刻蚀机的区别是光刻机把图案印上去,而刻蚀机是根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者无图的部分,留下剩余的部分,光刻机利用的是光学和化学反应原理和化学以及物理刻蚀方法 。
【光刻机和刻蚀机有什么区别】光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备 。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上 。曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备 。

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